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激光诱导结晶
设备
| LIC
激光诱导结晶设备
| LIC
应用领域
非晶材料的激光结晶及原位杂质激活
产品特点
全球首创,12寸量产设备
高均匀性的全自主LIET光学系统
低至5mJ/cm
2
的能量密度调控精度
nS级精确脉宽控制
型号
LA2540G
激光波长
527nm
晶圆尺寸
12寸
能量密度调控精度
5mJ/cm
2
光斑顶部不均匀性率
≤1%
焦深范围
5mm
工艺效果
一次扫描完成结晶和激活工艺
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激光诱导外延生长设备
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晶圆激光标刻机
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